Jeśli wdychano 3-amino-5-merkapto-1,2, 4-triazol, należy przenieść pacjenta na świeże powietrze; w przypadku kontaktu ze skórą zdjąć zanieczyszczoną odzież i dokładnie umyć skórę wodą z mydłem. Jeśli czujesz się nieswojo, zasięgnij porady lekarza; jeśli masz czysty kontakt z oczami, rozdziel powieki, przepłucz je bieżącą wodą lub solą fizjologiczną i natychmiast zasięgnij porady lekarza; w przypadku połknięcia natychmiast przepłukać gardło, nie wywoływać wymiotów i natychmiast zasięgnąć porady lekarza.

Służy do przygotowania roztworu czyszczącego fotorezyst

W typowym procesie produkcji diod LED i półprzewodników, maska ​​fotorezystu jest tworzona na powierzchni niektórych materiałów, a wzór jest przenoszony po naświetleniu. Po uzyskaniu wymaganego wzoru należy usunąć pozostałości fotorezystu przed kolejnym procesem. W tym procesie wymagane jest całkowite usunięcie niepotrzebnego fotorezystu bez korozji jakiegokolwiek podłoża. Obecnie roztwór do czyszczenia fotorezystu składa się głównie z polarnego rozpuszczalnika organicznego, silnych zasad i / lub wody itp. Fotorezyst na płytce półprzewodnikowej można usunąć przez zanurzenie chipa półprzewodnikowego w płynie czyszczącym lub przemycie chipa półprzewodnikowego w płynie czyszczącym .

Opracowano nowy rodzaj roztworu do czyszczenia fotorezystu, który jest niewodnym detergentem o niskiej trawieniu. Zawiera: aminę alkoholową, 3-amino-5-merkapto-1,2,4-triazol oraz współrozpuszczalnik. Ten rodzaj roztworu do czyszczenia fotorezystu można stosować do usuwania fotorezystu z diod LED i półprzewodników. Jednocześnie nie atakuje podłoża, takiego jak metal aluminium. Co więcej, system charakteryzuje się dużą wodoodpornością i poszerza zakres jego działania. Ma dobre perspektywy zastosowania w dziedzinie czyszczenia diod LED i chipów półprzewodnikowych.